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Objetivo de placa de titanio ASTM B265 Gr1 de alta pureza al 99,99%
1, alto punto de fusión
2, baja densidad
3, excelente resistencia a la corrosión
4, excelente biocompatibilidad
5, proceso de recubrimiento, PVD, pulverización catódica con magnetrón, semiconductores
Descripción
Descripción de productos
El objetivo de titanio se refiere a una fuente de pulverización catódica que forma varias películas funcionales sobre el sustrato mediante pulverización catódica con magnetrón, revestimiento de iones de arco múltiple u otros tipos de equipos de recubrimiento en condiciones de proceso apropiadas.
El objetivo de titanio juega un papel central en el proceso de pulverización catódica y es una materia prima importante utilizada principalmente en el proceso de recubrimiento. Los objetivos de titanio se utilizan en diferentes campos mediante tecnologías de deposición física de vapor (PVD) y pulverización catódica con magnetrón, como en la industria de semiconductores para la fabricación de componentes electrónicos, en el campo de la optoelectrónica para la fabricación de dispositivos optoelectrónicos y en el campo de los materiales magnéticos para la fabricación de discos duros. y tarjetas magnéticas, etc.
La pureza es uno de los principales indicadores de rendimiento del material objetivo, porque la pureza del material objetivo tiene una gran influencia en el rendimiento de la placa delgada.
Normalmente, los materiales objetivo son materiales policristalinos con tamaños de grano que varían desde micras hasta milímetros. Para el mismo objetivo, la tasa de chisporroteo de los objetivos de grano fino es más rápida que la de los objetivos de grano grueso. Las películas delgadas depositadas por pulverización catódica a partir de objetivos con diferencias de tamaño de grano más pequeñas (distribuidas uniformemente) tienen una distribución de espesor más uniforme.
Nuestros productos
Ventajas de los productos
Excelente resistencia a la corrosión
El titanio es conocido por su excelente resistencia a la corrosión, lo que lo hace ideal para aplicaciones industriales.
Excelente biocompatibilidad
La biocompatibilidad de las aleaciones de titanio se debe a la formación de una densa película de óxido en su superficie, que no se corroerá en el cuerpo ni afectará los nervios del cuerpo ni las reacciones bioelectroquímicas.
Alta resistencia, alto punto de fusión, baja densidad
Las propiedades físicas únicas hacen que los objetivos de placa de titanio se utilicen en muchos campos de alta gama.
Aplicaciones de productos
Semiconductor
Los objetivos de placa de titanio se utilizan en la industria de semiconductores para fabricar componentes electrónicos.
Pantallas planas y células solares.
Los objetivos de placa de titanio se utilizan en el campo de la optoelectrónica para fabricar dispositivos optoelectrónicos.
Equipo medico
Dianas de titanio para aplicaciones de medicina nuclear y producción de radioisótopos
proceso de farfulla
El proceso de pulverización catódica con objetivo de placa de titanio se utiliza principalmente para el proceso de recubrimiento.
Nuestros Certificados
Embalaje y entrega
¿Tiene alguna pregunta sobre nuestros servicios y productos de placa objetivo de titanio o sobre Kehui Company? Por favor contáctenos. ¡Esperamos con interés escuchar de usted!
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